Article Dans Une Revue
The Journal of Chemical Physics
Année : 2014
Pere Roca i Cabarrocas : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://polytechnique.hal.science/hal-01230706
Soumis le : mercredi 18 novembre 2015-19:49:39
Dernière modification le : mercredi 15 mai 2024-12:40:28
Citer
Aomar Hadjadj, Fadila Larbi, Mickaël Gilliot, Pere Roca I Cabarrocas. Etching of a-Si:H thin films by hydrogen plasma: A view from in situ spectroscopic ellipsometry. The Journal of Chemical Physics, 2014, 141 (8), ⟨10.1063/1.4893558⟩. ⟨hal-01230706⟩
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