Article Dans Une Revue
Thin Solid Films
Année : 2014
Martin Foldyna : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://polytechnique.hal.science/hal-01230105
Soumis le : mardi 17 novembre 2015-17:45:04
Dernière modification le : vendredi 16 juin 2023-17:18:07
Citer
Z. Mrázková, A. Torres-Rios, R. Ruggeri, M. Foldyna, K. Postava, et al.. In-situ spectroscopic ellipsometry of microcrystalline silicon deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition on flexible Fe–Ni alloy substrate for photovoltaic applications. Thin Solid Films, 2014, 571, ⟨10.1016/j.tsf.2014.06.009⟩. ⟨hal-01230105⟩
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