Wafer-scale pulsed laser deposition of ITO for solar cells: reduced damage vs. interfacial resistance - École polytechnique Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Materials Advances Année : 2022

Wafer-scale pulsed laser deposition of ITO for solar cells: reduced damage vs. interfacial resistance

Yury Smirnov
  • Fonction : Auteur
Pierre-Alexis Repecaud
  • Fonction : Auteur
Leonard Tutsch
  • Fonction : Auteur
Ileana Florea
  • Fonction : Auteur
Kassio P.S. Zanoni
  • Fonction : Auteur
Abhyuday Paliwal
  • Fonction : Auteur
Henk Bolink
Martin Bivour
  • Fonction : Auteur
Monica Morales-Masis

Résumé

Halide perovskite and silicon heterojunction solar cells present sensitive contact layers prone to damage during ITO deposition. We study the effect of ITO pulsed laser deposition pressure on damage mitigation and improved solar cell performance.

Dates et versions

hal-04310624 , version 1 (27-11-2023)

Identifiants

Citer

Yury Smirnov, Pierre-Alexis Repecaud, Leonard Tutsch, Ileana Florea, Kassio P.S. Zanoni, et al.. Wafer-scale pulsed laser deposition of ITO for solar cells: reduced damage vs. interfacial resistance. Materials Advances, 2022, 3 (8), pp.3469-3478. ⟨10.1039/d1ma01225h⟩. ⟨hal-04310624⟩
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