Tin versus indium catalyst in the growth of silicon nanowires by plasma enhanced chemical vapor deposition on different substrates - École polytechnique Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2022

Tin versus indium catalyst in the growth of silicon nanowires by plasma enhanced chemical vapor deposition on different substrates

Siham Djoumi
Fatiha Kail
  • Fonction : Auteur
Larbi Chahed
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04310636 , version 1 (27-11-2023)

Identifiants

Citer

Siham Djoumi, Fatiha Kail, Pere Roca I Cabarrocas, Larbi Chahed. Tin versus indium catalyst in the growth of silicon nanowires by plasma enhanced chemical vapor deposition on different substrates. Thin Solid Films, 2022, 758, pp.139447. ⟨10.1016/j.tsf.2022.139447⟩. ⟨hal-04310636⟩
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